快速退火爐
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概述：
AST2800是一款用高強度可見光加熱單片wafer或樣片的快速退火系統，其工藝時間短，控溫精度高。工藝穩定時間可設置到9999秒，一般推薦1-600秒。
相對于傳統的爐管式退火系統，其獨特的水冷腔體設計、先進的溫度控制技術確保了優越的溫度均勻性。工藝時，wafer放置在獨立的石英腔體內的石英載盤上，通機械手自動傳偏到指定位置，上下兩排燈管對wafer進行加熱。允許工程師自由創建、編輯工藝菜單,通過調整時間、溫度、工藝氣體流量等參數，控制工藝流程。
快速退火系統應用:離子注入激活、多晶硅退火、氧化回流、硅化物形成、歐姆接觸合金、 氧化物、氮化物生長等工藝。
